CARBON TETRALUORIDE (CF4)
Ứng dụng:
- Carbon Tetrafluoride (CF4) là loại khí dùng trong in khắc plasma, được sử dụng rộng rái trong các ngành công nghiệp vi điện tử hiện nay. Nó được sử dụng để in khắc Silicon Dioxite, Silicon Nitride, kính Phosphoro Silicate và vật liệu màng Vonfram.
- Sử dụng trong công nghệ làm sạch bề mặt các thiết bị điện tử hay mạch in, sản xuất pin năng lượng mặt trời, công nghệ laser, khí cách nhiệt, điện lạnh.
- Là chất tẩy rửa trong sản xuất mạch in công nghệp.
- Sở hữu tính ổn định về hóa học, CF4 cũng được sử dụng trong công nghệ nấu chảy kim loại và công nghiệp nhựa.
Thông số kỹ thuật:
|
NỘI DUNG |
ĐƠN VỊ |
CARBON TETRAFLUORIDE |
|
Độ tinh khiết |
% |
≥99,999 |
|
Nitrogen (N2) |
ppm |
≤1,0 |
|
Oxygen (O2) |
ppm |
≤0,5 |
|
Carbon monoxide (CO) |
ppm |
≤0,5 |
|
Carbon Dioxide (CO2) |
ppm |
≤0,5 |
|
Halocarbons (THC) |
ppm |
≤0,5 |
|
Sulfur Hexafluoride (SF6) |
ppm |
≤0,5 |
|
Moisture (H2O) |
ppm |
≤2,0 |
|
Acidity as HF |
ppm |
≤0,1 |
|
Thể tích chai chứa /Trọng lượng / Áp suất |
10L/4KG/100BAR và 40L/25KG/100BAR |
|
|
Tiêu chuẩn chai chứa, van kết nối |
GB5099 – ISO 9809-3. Kết nối CGA320 / 716 |
|
|
Cách xác định- màu |
Vỏ chai màu xám |
|
|
Đặc tính |
Không màu, không mùi, khí nén không độc, và có tính bay hơi cao |
|
|
Thông số kỹ thuật trên chỉ mang tính tham khảo, thông số có thể thay đổi theo thực tế từng lô hàng |
||
Mọi thông tin chi tiết liên quan kính mời Quý khách hàng liên hệ với Công Ty TNHH Kỹ Nghệ Công Nghiệp Phú Tài!
MỤC LỤC NGÀNH NGHỀ
